국산 질량분석기 전문 기업 영인에이스(Young In ACE)가 중국 대리점과 함께
SEMICON China 2026에 참가하여 반도체 공정에 적용 가능한 질량분석 기반 가스 분석 및 원소 분석 솔루션을 선보였습니다.
이번 전시는 2026년 3월 25일부터 27일까지 상하이 SNIEC(Shanghai New International Expo Centre)에서 개최되었으며,
글로벌 반도체 장비·소재·공정 기술 기업들이 참여한 아시아 최대 규모의 반도체 산업 전시회입니다.
영인에이스는 중국 대리점과 함께 참여하여 ACE 1100 IMR-MS와 ACE 3000 ICP-MS를 중심으로 반도체 공정 분석 솔루션을 소개했습니다.
반도체 공정에서 중요한 ‘가스 분석’
반도체 제조 공정에서는 다양한 공정 가스와 유해가스가 사용됩니다.
식각(Etching) 공정
증착(CVD, ALD) 공정
세정(Cleaning) 공정
이 과정에서 발생하는 가스를 정확하게 분석하지 못하면
공정 불량 발생
수율 저하
장비 오염
작업자 안전 문제
로 이어질 수 있습니다.
그래서 최근 반도체 산업에서는
“실시간 가스 분석”과 “정밀 모니터링”이 핵심 기술로 떠오르고 있습니다.
SEMICON China에서 확인된 시장 흐름
이번 SEMICON China 2026에서는 반도체 산업에서 다음과 같은 흐름이 뚜렷하게 나타났습니다.
✔ 공정 가스 실시간 분석 수요 증가
✔ 환경 및 안전 규제 강화
✔ 초정밀 공정 관리 필요성 확대
이에 따라
IMR-MS → 실시간 공정 가스 분석
ICP-MS → 초정밀 오염 분석
두 가지 기술 모두 반도체 공정 핵심 분석 장비로 주목받고 있습니다.
ACE 1100 IMR-MS │ 반도체 공정 가스 실시간 분석
ACE 1100 IMR-MS (ACE 1100 Ion Molecule Reaction Mass Spectrometer) 는
이온-분자 반응 기반 질량분석 시스템으로,반도체 공정에서 발생하는 다양한 가스를 실시간으로 분석할 수 있는 장비입니다.
반도체 공정에서의 활용
공정 가스 농도 모니터링
유해가스 누출 감지
공정 이상(Leak, contamination) 조기 감지
배출가스 분석 및 환경 규제 대응
주요 특징
시료 전처리 과정 없이 즉시 분석 가능
VOCs 및 공정 가스 실시간 분석
저농도(ppb~ppt 수준)에서도 안정적인 측정
즉, “공정 중 발생하는 가스를 바로 확인하고 대응할 수 있는 시스템”입니다.
ACE 3000 ICP-MS │ 반도체 공정용 초정밀 원소 분석
ACE 3000 ICP-MS (ACE 3000 Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometer) 는
유도결합 플라즈마 질량분석 기반의 극미량 원소 분석 장비입니다.
반도체 산업에서는 특히 금속 불순물 관리가 매우 중요합니다.
반도체 분야 활용
초순수(UPW) 내 금속 불순물 분석
공정 화학물질(chemical) 품질 검사
웨이퍼 오염 분석
소재 및 부품 내 trace metal 분석
주요 특징
ppt(10⁻¹²) 수준 극미량 원소 분석
고감도 정밀 분석
반도체, 2차전지, 디스플레이 등 첨단 산업 적용 가능
반도체 공정에서는
“보이지 않는 미량 오염까지 잡아내는 분석 장비”로 활용됩니다.
반도체 분석 기술, 이제는 실시간 + 초정밀
반도체 산업은 점점 더 고도화되고 있습니다.
✔ 공정은 더 정밀해지고
✔ 허용 오차는 더 작아지고
✔ 분석 속도는 더 빨라져야 합니다
이러한 흐름 속에서
IMR-MS = 실시간 가스 분석
ICP-MS = 극미량 원소 분석
은 반도체 공정 관리의 핵심 기술로 자리잡고 있습니다.
영인에이스의 방향
영인에이스는 SEMICON China 참가를 통해
반도체 공정에 적용 가능한 질량분석 솔루션을 글로벌 시장에 제시했습니다.
앞으로도 글로벌 전시회, 참여 해외 파트너십 강화, 기술 적용 확대
를 통해 반도체 및 첨단 산업 분야에서의 질량분석 기술 경쟁력을 지속적으로 강화해 나갈 계획입니다.
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